真空爐石墨配件的使用環(huán)境：
    氧氣含量：在高溫真空環(huán)境下，石墨資料簡略遭到氧氣的侵略。尤其是在爐門開關(guān)過程中，爐內(nèi)氧氣含量或許會時間短升高，增加了石墨配件氧化的風險。假設真空爐的密封功用欠安，外部空氣或許進入爐內(nèi)，進一步加劇真空爐石墨配件的氧化。
    污染物：真空爐內(nèi)部或許存在的殘留水分、氣體或其他污染物也或許促進氧化反應的產(chǎn)生。
    溫度與濕度：在高溫、高濕環(huán)境下，石墨制品的失重率會明顯增加，抗氧化功用也會相應下降。